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不同光學(xué)拋光工藝的質(zhì)量比較

來源：m.lesbicams.com  |  發(fā)布時(shí)間：2023年06月07日
  光學(xué)拋光技術(shù)是一種重要的表面處理技術(shù)，主要用于光學(xué)鏡頭、半導(dǎo)體襯底、光電設(shè)備等領(lǐng)域，以提高表面的光學(xué)質(zhì)量和光學(xué)性能。目前市場(chǎng)上常用的有研磨鈰基拋光材料、化學(xué)機(jī)械拋光、離子束拋光和電解拋光。這些過程各有優(yōu)缺點(diǎn)。本文從拋光精度、時(shí)間、成本、生產(chǎn)效率等方面對(duì)不同的光學(xué)拋光工藝進(jìn)行了比較。

  1、研磨拋光

  研磨拋光是一種傳統(tǒng)的光學(xué)拋光工藝，其原理是切割表面，去除表面雜質(zhì)和不均勻部分，提高表面光學(xué)性能。研磨拋光具有成本低、操作方便、適用范圍廣的優(yōu)點(diǎn)，但其拋光精度受機(jī)器精度和磨粒度的限制，表面粗糙度大，不適合高精度光學(xué)元件的拋光。此外，研磨拋光時(shí)間長，生產(chǎn)效率低。


鈰基拋光材料


  2、化學(xué)機(jī)械拋光

  化學(xué)機(jī)械拋光是一種新型的光學(xué)拋光工藝，其原理是通過化學(xué)變化和機(jī)械研磨的相互作用，去除表面小的凸起和深度不均勻的部分，從而提高表面光學(xué)性能。化學(xué)機(jī)械拋光具有拋光精度高、表面光滑、成本低、適用范圍廣等優(yōu)點(diǎn)，但也存在操作要求復(fù)雜、拋光速度慢、耗材成本高等缺陷。此外，化學(xué)機(jī)械拋光的化學(xué)液也會(huì)對(duì)環(huán)境和人們的健康產(chǎn)生的影響，需要注意。

  3、離子束拋光

  離子束拋光是利用離子束瞬間加速碰撞表面的幾何形狀和材料特性，去除表面突出部分的光學(xué)拋光過程。離子束拋光具有拋光精度高、表面光滑度好、拋光速度快等優(yōu)點(diǎn)，但也存在拋光時(shí)間短、適用范圍窄、成本高等缺陷。離子束拋光所用的設(shè)備設(shè)施成本高，操作難度大，需要技術(shù)人員操作。

  4、電解拋光

  電解拋光是利用電解質(zhì)的化學(xué)腐蝕去除表面雜質(zhì)和不均勻部分的光學(xué)拋光過程。電解拋光具有拋光精度高、表面質(zhì)量好、成本低等優(yōu)點(diǎn)，但也存在操作要求更復(fù)雜、適用范圍窄、拋光速度慢等缺陷。此外，電解拋光的腐蝕劑也會(huì)對(duì)環(huán)境和人們的健康產(chǎn)生一定的影響，需要注意。

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