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高鈰拋光粉

高鈰拋光粉的關鍵技術:通過將氯化鈰稀土進行合成、焙燒、破碎、分級等工藝制成粒度在0.4um-3.0um氧化鈰稀土拋光粉。該產品主要用于光學玻璃、集成電路基板玻璃、電鍍基板玻璃、高精度光學鏡頭、照像機鏡頭、飛機鋼化玻璃、各種顯示器玻璃等高精度的研磨拋光等10多個規格型號的產品。也可用在水鉆、燙鉆、玻璃飾品等。

內容介紹 / introduce
  高鈰拋光粉的關鍵技術:通過將氯化鈰稀土進行合成、焙燒、破碎、分級等工藝制成粒度在0.4um-3.0um氧化鈰稀土拋光粉。

  該產品主要用于藍玻璃、微晶玻璃、集成電路基板玻璃、電鍍基板玻璃、高精度光學鏡頭、照像機鏡頭、飛機鋼化玻璃、各種顯示器玻璃等高精度的研磨拋光等10多個規格型號的產品。也可用在水鉆、燙鉆、玻璃飾品等。

  產品主要特點:粒度細,分布合理,比表面積大,拋光過程中附著力強,懸浮性好,不易沉降。顆粒耐磨,拋光速度快,易清洗。


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